https://publications-cnrc.canada.ca/fra/voir/objet/?id=da91e051-e999-4b23-860f-da4ac184c843
Rechercher Mischki, Trevor K; Rechercher Donkers, Robert L; Rechercher Eves, Brian J; Rechercher Lopinski, Gregory P; Rechercher Wayner, Danial D. M
Langmuir, ACS Publications, 26 août 2006, Volume : 22, Numéro : 20
Reagentless micropatterning of hydrogen-terminated Si(111) via UV irradiation through a photomask has proven to be a convenient strategy for the preparation of...
Article de périodique (revue)
Texte intégral en ligne