https://publications-cnrc.canada.ca/fra/voir/objet/?id=16c3ff85-c7fa-4ceb-b36a-a96063bb849f
Rechercher Liu, J; Rechercher Wu, X; Rechercher Lennard, W. N; Rechercher Landheer, D; Rechercher Dharma-Wardana, M. W. C
Journal of applied physics, 18 juin 2010, Volume : 107, Numéro : 12
Hf silicate films (HfO2)0.25(SiO2)0.75 with thicknesses in the range 4–20 nm were grown on silicon substrate by atomic layer deposition at 350 °C. Hf...
Article de périodique (revue)
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